Platinsilicid

Platinsilicid ist eine chemische Verbindung des Platins aus der Gruppe der Silicide.

Gewinnung und Darstellung

Platinsilicid kann durch Reaktion von Platin mit Silicium oder Siliziumdioxid gewonnen werden. Da Platintiegel in der chemischen Forschung verwendet werden, macht sich die Bildung von Platinsilicid unangenehm beim Glühen von siliciumdioxidhaltigen Substanzen in Mischung mit Kohle in diesen bemerkbar. Der Tiegel wird brüchig. Freies Silicium zerstört Platingeräte schon bei Rotglut sofort.

$\mathrm{P}\mathrm{t}\mathrm{+}\mathrm{S}\mathrm{i}\mathrm{⟶}\mathrm{P}\mathrm{t}\mathrm{S}\mathrm{i}$

Eigenschaften

Platinsilicid ist ein grauweißer Feststoff. Er besitzt eine orthorhombische Kristallstruktur vom Manganphosphidtyp mit der Vorlage:Raumgruppe. Es besitzt einen Widerstand von 31–38 μΩ/cm.

Verwendung

Platinsilicid wird als Material für Infrarotdetektoren und Infrarotkameras verwendet. Es wird auch als Material für Schottky-Dioden eingesetzt. Es kommt auch als Kontaktmaterial in elektronischen Schaltkreisen zum Einsatz.

Verwandte Verbindungen

Neben Platinsilicid sind mit Diplatinsilicid (Pt₂Si, CAS-Nummer: Vorlage:CASRN, zwei Modifikationen) und Platindisilicid (PtSi₂, CAS-Nummer: Vorlage:CASRN) mindestens zwei weitere Platinsilicide bekannt. Phasen der Zusammensetzung Pt₆Si₅, Pt₁₂Si₅ und Pt₃Si können ebenfalls in ebenen Filmen (Dicke d<1000 Å) durch Koverdampfung auf Siliziumdioxid hergestellt werden.