Hexachlordisilan
Hexachlordisilan ist eine chemische Verbindung aus der Gruppe der chlorierten Silane.
Gewinnung und Darstellung
Hexachlordisilan kann (wie alle Perchlorsilane SinCl2n+2 mit n = 2-6) durch Reaktion von Calciumsilicid mit Chlor bei 230 bis 250 °C gewonnen werden.[1]
Ebenfalls möglich ist die Darstellung durch Reaktion von Siliciumdichlorid oder Silicium mit Chlor.[1]
Eigenschaften
Hexachlordisilan ist eine farblose, an Luft rauchende, hydrolyseempfindliche klare Flüssigkeit.[1]
Verwendung
Ultrahochreines Hexachlordisilan wird in der Halbleiterindustrie für die chemische Gasphasenabscheidung von siliciumhaltigen funktionellen Schichten, bei sehr niedrigen Temperaturen, eingesetzt. Anlagen zur Herstellung stehen zum Beispiel im badischen Rheinfelden.[2] Hexachlordisilan ist Ausgangsstoff zur Erzeugung von Dodecachlorneopentasilan (Si5Cl12) und von Dodecachlorcyclohexasilane (Si6Cl12).[3][4][5] Diese beiden Verbindungen können leicht zu den entsprechenden Hydrosilanen Neopentasilan (Si5H12) und Cyclohexasilan (Si6H12) hydriert werden, welche als Präkursoren für druckbare Elektronik dienen.[6] Weiterhin wird Hexachlordisilan zur Erzeugung von Trichlorsilylanionen der Hauptgruppenelemente [E(SiCl3)n]− (E = B, C, Si, Ge, P, S) verwendet. Diese Anionen können als nicht-nukleophile oder schwach koordinierende Anionen verwendet werden.[7][8] Außerdem dienen sie als nukleophile Übertragungsreagenzien für Trichlorsilylgruppen und für Hauptgruppenelement-Ionen.[9]
Einzelnachweise
- ↑ 1,0 1,1 1,2 Georg Brauer (Hrsg.), unter Mitarbeit von Marianne Baudler u. a.: Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. 3., umgearbeitete Auflage. Band I, Ferdinand Enke, Stuttgart 1975, ISBN 3-432-02328-6, S. 669.
- ↑ Spezialchemie: Bau einer Spezialchemie-Anlage für Elektronikchips gestartet - Evonik Industries - Spezialchemie, abgerufen am 5. Januar 2014.
- ↑ Vorlage:Literatur
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