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- [[Kategorie:Dünnschichttechnik]] …5 KB (714 Wörter) - 20:20, 3. Nov. 2023
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- …roline HTS wire: General Properties |titelerg=Produktbroschüre |hrsg=Theva Dünnschichttechnik GmbH |datum=2017-12-18 |format=PDF; 785 kB |sprache=en |abruf=2020-11- …20 KB (2.545 Wörter) - 13:58, 9. Feb. 2025
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- Das Platin wird in [[Dünnschichttechnik]] [[mäander]]förmig auf einen Keramikträger aufgebracht. Nach dem [[Drahtbo …12 KB (1.493 Wörter) - 14:12, 23. Feb. 2025
- …von Antireflexionsbeschichtungen erfolgt durch Beschichtungsmethoden der [[Dünnschichttechnik]]. Zu den am häufigsten eingesetzten Verfahren gehören [[physikalische Gasp …14 KB (1.916 Wörter) - 08:38, 8. Nov. 2024
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- Zur Herstellung einer dünnen Elektrolytschicht aus YSZ wird eine [[Dünnschichttechnik|Beschichtung]] mit feinem YSZ-Staub auf einer Elektrode aufgetragen und [[S …18 KB (2.303 Wörter) - 15:31, 11. Sep. 2024
- …2008/mst_t&p_04__duennschichttechnik_(ws_07-08).pdf |text=Vorlesungsskript Dünnschichttechnik |wayback=20120201095434}} – Institut für Mikrosystemtechnik, Freiburg (PDF- …24 KB (3.194 Wörter) - 07:53, 28. Jan. 2025
- [[Kategorie:Dünnschichttechnik]] …40 KB (5.362 Wörter) - 22:42, 18. Mär. 2025
- [[Kategorie:Dünnschichttechnik]] …40 KB (5.216 Wörter) - 18:18, 8. Mär. 2025
- …' (siehe [[Dünnschichttransistor]]) geeignet für Feldeffekttransistoren in Dünnschichttechnik durchsetzte. Dieser materialtechnische Durchbruch gelang in Europa.<ref>{{L …59 KB (7.667 Wörter) - 10:42, 29. Aug. 2024
- …eiter]]material als auch nach der Zelltechnologie ([[wafer]]basiert oder [[Dünnschichttechnik|Dünnschicht]]) unterschieden werden können. Wichtigstes Halbleitermaterial …haften von kristallinem Silicium als Zellenmaterial mit den Methoden der [[Dünnschichttechnik]]. In der Kombination aus amorphem und mikrokristallinem Silicium wurden ei …125 KB (16.385 Wörter) - 13:02, 27. Feb. 2025