Datei:LOCOS birds beak DE.svg

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Beschreibung

Beschreibung
English: Detail cross section at the edge of an isolation windows after a simple LOCOS process. The schematic shows partial growth of Silicon dioxide into the silicon substrate and distortion of the silicon nitrite mask because of volume increase under the mask.
Deutsch: Schnitt an der Kante eines Isolationsfenster nach einem einfachen LOCOS-Prozess. Zusehen ist das teilweise Wachstum in das Silicium-Substrat und die Verbiegung der Siliciumnitritmaske durch die Volumenzunahme auch unter der Maske.
Datum
Quelle Eigenes Werk
Urheber Cepheiden


Lizenz

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aktuell10:27, 9. Aug. 2025Vorschaubild der Version vom 10:27, 9. Aug. 2025485 × 326 (7 KB)wikimediacommons>思考的苇丛File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for zh.

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